VENUS IC制造专用温控机组

节能恒温液冷机组(压缩机型)

VENUS-ECS05

低温、大冷量冷水机组，适用于光刻，Etch，CVD，IMP，Diff等IC制造过程的温控。

宽广的工作范围

控制温度从-80°C 到 +80 °C

大冷量

冷量从 1kW 到 20kW

节能恒温液冷机组(热交换型)

VENUS-EHS306

带珀尔帖模块的冷水机组，适用于光刻，Etch，CVD，IMP，Diff等IC制造过程的温控

高能效

带Peltier 模块的冷却/加热系统，Peltier 模块节能

无含氟利昂制冷剂

使用Peltier 模块，无含氟利昂制冷剂

恒温液冷机组(热电型)

VENUS-GTS06

中/高温冷水机组，适用于CVD, PVD, ETCH 等IC制造过程的温控

用于营造高温环境

可控温度从30℃到200℃